ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ PX ನಿರಂತರ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ವ್ಯವಸ್ಥೆ

ಸಿಸ್ಟಮ್ ಅನ್ನು ಪೂರ್ವಭಾವಿಯಾಗಿ ಕಾಯಿಸಿ ಮತ್ತು ಔಟ್ಲೆಟ್ ಟೈಲ್ ಅನಿಲದ ಆಮ್ಲಜನಕದ ಅಂಶವು ಶೂನ್ಯವಾಗುವವರೆಗೆ ಸಾರಜನಕದೊಂದಿಗೆ ಅದನ್ನು ಶುದ್ಧೀಕರಿಸಿ.

ದ್ರವ ಫೀಡ್ (ಅಸಿಟಿಕ್ ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ವೇಗವರ್ಧಕ) ಅನ್ನು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿ ಸೇರಿಸಿ ಮತ್ತು ನಿರಂತರವಾಗಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಬಿಸಿ ಮಾಡಿ.

ಶುದ್ಧ ಗಾಳಿಯನ್ನು ಸೇರಿಸಿ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಪ್ರಚೋದಿಸುವವರೆಗೆ ಬಿಸಿ ಮಾಡುವುದನ್ನು ಮುಂದುವರಿಸಿ ಮತ್ತು ನಿರೋಧನವನ್ನು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿ.

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾಕಾರಿಗಳ ದ್ರವ ಮಟ್ಟವು ಅಗತ್ಯವಾದ ಎತ್ತರವನ್ನು ತಲುಪಿದಾಗ, ವಿಸರ್ಜನೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿ ಮತ್ತು ದ್ರವ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಸ್ಥಿರವಾಗಿಡಲು ವಿಸರ್ಜನೆಯ ವೇಗವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಿ.

ಇಡೀ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ಮುಂಭಾಗ ಮತ್ತು ಬ್ಯಾಕ್-ಅಪ್ ಒತ್ತಡದಿಂದಾಗಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿನ ಒತ್ತಡವು ಮೂಲಭೂತವಾಗಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ.

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಮುಂದುವರಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ, ಗೋಪುರದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ, ಗೋಪುರದ ಮೇಲಿನಿಂದ ಅನಿಲವು ಕಂಡೆನ್ಸರ್ ಮೂಲಕ ಅನಿಲ-ದ್ರವ ವಿಭಜಕವನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವಸ್ತು ಶೇಖರಣಾ ತೊಟ್ಟಿಗೆ ಪ್ರವೇಶಿಸುತ್ತದೆ.ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಅಗತ್ಯಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಅದನ್ನು ಗೋಪುರಕ್ಕೆ ಹಿಂತಿರುಗಿಸಬಹುದು ಅಥವಾ ವಸ್ತು ಸಂಗ್ರಹದ ಬಾಟಲಿಗೆ ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಬಹುದು.

ಕೆಟಲ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಾಗಿ, ಕೆಟಲ್ ಕವರ್ನಿಂದ ಅನಿಲವನ್ನು ಗೋಪುರದ ಔಟ್ಲೆಟ್ನಲ್ಲಿ ಕಂಡೆನ್ಸರ್ಗೆ ಪರಿಚಯಿಸಬಹುದು.ಮಂದಗೊಳಿಸಿದ ದ್ರವವನ್ನು ಸ್ಥಿರವಾದ ಫ್ಲಕ್ಸ್ ಪಂಪ್‌ನೊಂದಿಗೆ ರಿಯಾಕ್ಟರ್‌ಗೆ ಮತ್ತೆ ಪಂಪ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅನಿಲವು ಬಾಲ ಅನಿಲ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸುತ್ತದೆ.